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    鈦鋁靶


    航空航天用鈦鋁靶材

    航空航天用鈦鋁靶材

    鈦鋁靶材是以鈦(Ti)和鋁(Al)為主要成分,通過特定工藝制備而成的合金濺射靶材,是物理氣相沉積(PVD)技術的關鍵“源頭”材料。通過磁控濺射、電弧離子鍍等工藝,鈦鋁靶材被氣化并沉積在... 【詳情】
    裝飾與功能鍍膜用鈦鋁靶

    裝飾與功能鍍膜用鈦鋁靶

    裝飾與功能鍍膜用鈦鋁靶是以鋁鈦合金(原子比50-70:30-50)為材質?、純度≥99.8%?的濺射靶材,具有高濺射速率、耐磨及耐腐蝕性?,符合裝飾鍍膜高純度(≥99.8%)及易燒結成型標準?,主要應用于刀具涂層強化、手機/手表表面裝飾鍍膜及汽車零部件防護涂層?。... 【詳情】
    高純度鈦鋁靶

    高純度鈦鋁靶

    99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高,粒度細,易燒結,成型性好的特點。純度:99.8%Φ160*12 Φ128*15 Φ105*16 Φ100*32 Φ64*32 741*191*18 1040*191*18 1701*132*12矩形靶... 【詳情】
    旋轉鈦鋁靶管

    旋轉鈦鋁靶管

    凱澤金屬鋁圓柱靶的供貨規格及參數如下:1、表面車光、倒角。表面清潔光滑無起皮,氣孔,裂紋等缺陷。2、規格Φ100*40,Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40,Φ85*35,Φ65*40較常見,其他規格可按客... 【詳情】
    電容器用鈦鋁靶

    電容器用鈦鋁靶

    產品名稱:高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純鋁經過系列加工后的產品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】
    鍍膜用鈦鋁靶

    鍍膜用鈦鋁靶

    產品名稱:高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純鋁經過系列加工后的產品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】
    旋轉鈦鋁靶材

    旋轉鈦鋁靶材

    產品名稱:高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純鋁經過系列加工后的產品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】
    高純度鋁靶管

    高純度鋁靶管

    產品名稱:高純鋁靶管、鈦鋁靶一、產品規格參數純度:99.9% 99.99% 99.999%粒度:LD70× OD56 LD155×OD125或根據客戶要求生產。二、產品優勢及特點1、純度高,良好的導電性,延展性,... 【詳情】
    裝飾用鈦鋁靶

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    產品名稱:高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純鋁經過系列加工后的產品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】
    真空鍍膜用鈦鋁靶材

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    產品名稱:高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純鋁經過系列加工后的產品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】
    鈦鋁多弧靶

    鈦鋁多弧靶

    99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高,粒度細,易燒結,成型性好的特點。純度:99.8%Φ160*12 Φ128*15 Φ105*16 Φ100*32 Φ64*32 741*191*18 1040*191*18 1701*132*12矩形靶... 【詳情】
    鋁圓柱靶

    鋁圓柱靶

    凱澤金屬鋁圓柱靶的供貨規格及參數如下:1、表面車光、倒角。表面清潔光滑無起皮,氣孔,裂紋等缺陷。2、規格Φ100*40,Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40,Φ85*35,Φ65*40較常見,其他規格可按客... 【詳情】
    高純鋁靶材

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    高純鋁靶管

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    產品名稱:高純鋁靶管、鈦鋁靶一、產品規格參數純度:99.9% 99.99% 99.999%粒度:LD70× OD56 LD155×OD125或根據客戶要求生產。二、產品優勢及特點1、純度高,良好的導電性,延展性,... 【詳情】
    旋轉鈦鋁靶

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    99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高,粒度細,易燒結,成型性好的特點。純度:99.8%Φ160*12 Φ128*15 Φ105*16 Φ100*32 Φ64*32 741*191*18 1040*191*18 1701*132*12矩形靶... 【詳情】
    TiLv鈦鋁靶70:30/30:70/50:50

    TiLv鈦鋁靶70:30/30:70/50:50

    產品名稱:鈦鋁靶材、鈦鋁多弧靶、鈦鋁合金靶牌號:TiLv80:20 , 70:30 , 30:70 , 50:50用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業... 【詳情】
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